System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik · Frankfurt (Oder) · Brandenburg
Beschreibung
System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
KI-Eignungsanalyse
Branche: IT & Digitalisierung
Ausschreibung für ein System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid- und Oxid-Schichten.
Preiseinschätzung
Basierend auf 838 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
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