Rahmenvertrag Container- und Entsorgungsdienstleistungen
KI Gesucht werden Container- und Entsorgungsdienstleistungen im Rahmen eines Rahmenvertrags.
Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS
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We are seeking proposals for lithography process support for two lithography layers. The
project involves utilizing 193nm (ArF) or 248nm (KrF) lithography technology for the first
layer to expose structures of a minimum of 150nm. For the first lithography layer two
possible mask options are required. The provider will be responsible for photoresist,
exposure, and development processes, including metrology. For the second lithography
layer, i-Line lithography technology can be used since dimensions for that layer are at least
450 nm. The provider will again handle the mentioned steps (see figure 1). The entire project
must adhere to the protocol zones for wafer processing (Front End of Line) as per SEMI
Standard.
PR726476 - Lithography Process Support for Two Lithography Layers
Branche: IT & Digitalisierung
Gesucht wird ein Dienstleister für Lithografie-Prozessunterstützung für zwei Lithografie-Ebenen.
Diese Kurzanalyse ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung und keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (oeffentlichevergabe.de). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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