Öffentliche Ausschreibung (national) Gesundheitswesen & Medizintechnik
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VOL (Lieferungen/DL)

Pads für Mirra

Fraunhofer ENAS

Angebote bis 02.10.2026, 12:00 Uhr (noch 19 Tage)

Beschreibung

Pad für Mirra Anlage, gezielt für Oxide Polieren von 8 Zoll Wafer. Pads für Mirra

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KI-Eignungsanalyse

KI-generiert

Branche: Gesundheitswesen & Medizintechnik

Das Wichtigste auf einen Blick

  • Beschaffung von Polierpads für die Mirra Anlage zur Bearbeitung von 8-Zoll-Wafern.
  • Spezifische Anforderung für das Polieren von Oxiden.
  • Der Auftraggeber ist die Fraunhofer ENAS in Chemnitz.
  • Es handelt sich um ein offenes, standardisiertes Vergabeverfahren.

Gesucht werden Polierpads für die Mirra Anlage zur Oxide-Politur von 8-Zoll-Wafern.

Die Ausschreibung richtet sich an spezialisierte Anbieter von Halbleiterfertigungsmaterialien. Es sind spezifische technische Anforderungen an die Pads zu erfüllen.

Weitere Eignungskriterien: Details in der vollständigen Analyse.

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Verfahrensverlauf

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Stammdaten
Angebotsfrist 02.10.2026, 12:00 Uhr (noch 19 Tage)
Verfahrensart Öffentliche Ausschreibung (national)
Schwierigkeit Gering KI
Auftraggeber Fraunhofer ENAS
Veröffentlicht 03.09.2026
Erfüllungsort Chemnitz
Rückfrage an die Vergabestelle stellen über die Bieterkommunikation im Vergabeportal (oeffentlichevergabe.de)
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Angebotsfrist läuft noch

Vergabeunterlagen erhalten Sie über die in der Bekanntmachung angegebene Vergabeplattform des Auftraggebers Fraunhofer ENAS. Oberhalb der EU-Schwellenwerte ist die elektronische Einreichung über eVergabe-Plattformen (z. B. Vergabe.NRW, DTVP, evergabe-online.de, HAD) Pflicht.

Erweiterte Daten

Quelle: oeffentlichevergabe.de · 3/5 Kernfelder

Nicht in der Bekanntmachung: Auftragswert · CPV-Code

Zuletzt geprüft am 04.09.2026

Daten korrigieren →

Quelle: oeffentlichevergabe.de

Bekanntmachung über die zentrale Vergabeplattform des Bundes. Vollständige Vergabeunterlagen und Angebotsabgabe auf der Original-Plattform der Vergabestelle:

Auf oeffentlichevergabe.de ansehen → Zur Original-Ausschreibung →