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Die Anlage muss für den Einbau in einem ISO 14644-1, Klasse ISO 5 Reinraum geeignet sein
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Kauf einer DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage)
Westsächsische Hochschule Zwickau · Zwickau · Sachsen · Körperschaft des öffentlichen Rechts (Land)
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Kurze Beschreibung: Anschaffung einer neuen DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) - mit Software- und Anlagensteuerung inklusive Installation und Einweisung Bestehend aus: DRIE/ RIE-Anlage, Substratelektrode, Kantenschutz der Wafer während der Ätzung, Notching-Kontrolle/ Reduktion der Strukturabweichung beim Ätzstopp auf Dielektrika, Endpunktdetektion, Software- und Anlagensteuerung, Verpackung / Transport / Abladen / Einbringen / Installation einschließlich Inbetriebnahme und Schulung Beschreibung der Beschaffung (Art und Umfang der Dienstleistung bzw. Angabe der Bedürfnisse und Anforderungen) Neue DRIE/ RIE-Anlage inkl. Zubehör für die Forschung an der WHZ mit folgenden Anforderungen: 01 1 RIE / DRIE-Anlage Plasmaätzanlage für plasmachemisches, reaktives Silizium-Tiefenätzen (?500µm) mittels des Bosch-Prozesses (gas chopping process) und RIE von dünnen Dielektrika- Schichten (?2µm). - Die Anlage muss die Verarbeitung von 100mm Wafern mit und ohne Primary-Flat, sowie mit und ohne Secondary-Flat erlauben. - Die Anlage muss die Verarbeitung von 150mm Wafern mit und ohne Primary-Flat, mit und ohne Secondary-Flat oder auch mit und ohne Notch erlauben. - Das im DRIE-Modus mögliche Siliziumabtragsvolumen pro Zeiteinheit liegt bei bis zu ca. 2,5 mm3/s, das Wärmemanagement ist entsprechend auszulegen. Die exakten zu erfüllenden Prozessparameter sind der Spezifikationstabelle im Punkt "Geforderte Prozessprameter und deren Überprüfbarkeit" zu entnehmen. - Die Anlage muss über eine separate Beschickungskammer (Vakuumschleuse, Loadlock) verfügen, die es zulässt die spezifizierten Wafer, ohne ein Belüften der Prozesskammer gegen Atmosphäre zu laden. - Der Probenchuck / Substratelektrode muss über eine He-Rückseitenkühlung für die Substrate verfügen. Es muss zudem eine Vorrichtung zur Detektion von He-Lecks in Richtung Prozesskammer beim Ätzprozess, z.B. durch Waferbruch, vorhanden sein. - Via Mass-Flow-Controller geregelte Gaslinien für folgende Prozessgase müssen vorhan
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KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Sonstiges
Das Wichtigste auf einen Blick
- Beschaffung einer DRIE/RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) inklusive Software, Installation und Schulung.
- Die Anlage muss für die Verarbeitung von 100mm und 150mm Wafern geeignet sein und spezifische Prozessparameter erfüllen.
- Besondere Anforderungen umfassen eine separate Beschickungskammer, He-Rückseitenkühlung, Mass-Flow-Controller für Prozessgase und einen aktiv geheizten Prozesskammer-Liner.
- Die Anlage muss CE-gekennzeichnet sein und den Einbau in einen ISO 5 Reinraum ermöglichen.
- Zusätzlich werden eine Substratelektrode mit elektrostatischer Klemmung, Kantenschutz und Notching-Kontrolle gefordert.
Die Westsächsische Hochschule Zwickau sucht eine neue DRIE/RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) für Forschungszwecke.
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Zuschlagskriterien
Wonach der Auftraggeber das wirtschaftlichste Angebot ermittelt.
Los 1 · Kauf einer DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage)
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Erfüllung der Leistungsparameter 60 Pkt.Qualität
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Preiskriterium 30 Pkt.Preis
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Lieferzeit 10 Pkt.Qualität
Quelle: Bekanntmachung (eForms) — Gewichtung wie vom Auftraggeber veröffentlicht.
Anforderungen an Bieter (Eignung)
Was Sie zur Teilnahme nachweisen müssen — wie vom Auftraggeber gefordert.
Technische & berufliche Leistungsfähigkeit
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Werkzeuge, Anlagen, technische Ausrüstung
Nachweis über Vorhandensein eines Applikationslabors bei Bieter
Quelle: Bekanntmachung (eForms). Maßgeblich sind die vollständigen Vergabeunterlagen.
Solche Anforderungen kommen wieder
Hier wurden Nachweise zu Technische & berufliche Leistungsfähigkeit verlangt. Für diese Ausschreibung ist die Frist vorbei — mit einem kostenlosen Suchprofil bekommen Sie vergleichbare Ausschreibungen am Tag der Veröffentlichung per E-Mail, statt sie Wochen später über eine Suchmaschine zu finden.
Mit der Anmeldung akzeptieren Sie unsere AGB und bestätigen, die Datenschutzerklärung zur Kenntnis genommen zu haben. AusschreibungsRadar richtet sich ausschließlich an Unternehmer im Sinne von § 14 BGB.
Vergabe- & Vertragsbedingungen
Wichtige Bedingungen für Angebot und Ausführung — wie vom Auftraggeber bekannt gemacht.
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Nachforderung fehlender Unterlagen möglich
Der Auftraggeber darf fehlende, unvollständige oder fehlerhafte Unterlagen nachfordern (§ 56 VgV).
- Elektronische Rechnung (eRechnung) verpflichtend
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EU-gefördertes Vorhaben
eu-funds
Quelle: Bekanntmachung (eForms). Maßgeblich sind die vollständigen Vergabeunterlagen.
Wörtliche Zitate aus der Leistungsbeschreibung
🤖 KI-unterstütztDie folgenden Textstellen stammen wortwörtlich aus der Bekanntmachung der Vergabestelle. Wir stellen sie strukturiert dar, ohne sie zu paraphrasieren oder zu interpretieren. Die Zuordnung zu Kategorien erfolgt KI-gestützt — die Zitate selbst sind unverändert und via Substring-Match verifiziert (KI-Transparenz nach Art. 50 EU AI Act).
Verfahrensverlauf
📅 .icsVollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
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1 Veröffentlichung
- Frist 10.07.2026 Original-Veröffentlichung aktuell
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Wertung
Angebote werden geprüft
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Vergabeergebnis
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Preiseinschätzung
Basierend auf 1.190 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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