AusschreibungsRadar — Verfahrensauszug
ALD-Anlage
Stammdaten
- Auftraggeber
- Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V., Jena
- Veröffentlicht
- 26.08.2026
- Frist (Submission)
- 01.09.2026
- Notice-Typ
- Ausschreibung
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- CPV-Code
- 38000000 — Labor-, optische und Präzisionsgeräte
- Branche
- Bildung & Forschung
- Geschätzter Wert
- 461.344 €
- Rechtsgrundlage
- EU-Oberschwelle
Beschreibung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Vertragslaufzeit
- Beginn
- 28.08.2026
- Ende
- 05.09.2027
Verfahrens-Bedingungen
- Bindefrist
- 40 Tage
- Bürgschaft
- erforderlich
Vergabe-Status
- Vergabe-Status
- Vergabeergebnis liegt uns nicht vor
Verfahrensverlauf — alle 3 Veröffentlichungen
- Ausschreibung · Frist: 01.09.2026
- Wertung
- Vergabeergebnis
Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)
Vergabekammer Thüringen, Weimar
Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.