System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik · Frankfurt (Oder) · Brandenburg
Beschreibung
System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Ausschreibung für ein System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid- und Oxid-Schichten.
Hinweis: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de.
Preiseinschätzung
Basierend auf 855 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
Eingegangene Angebote
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Verfahrensverlauf
Vollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
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Ausschreibung
Angebote werden eingeholt
1 Veröffentlichung
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Vergabeergebnis Sie sind hier
Auftrag wurde zugeschlagen
Zuschlagswert 2.335.634 €1 Veröffentlichung
- 01.08.2024 Original-Veröffentlichung aktuell
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