RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 · München · Bayern
Beschreibung
RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04)
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Bildung & Forschung
Beschaffung eines RIE Cluster DRIE & Cryo Etch Geräts (Reactive Ion Etching Anlage mit Deep Reactive Ion Etching und Kryoätztechnologie) für die Fraunhofer-Gesellschaft am Standort Chemnitz.
Hinweis: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de.
Weitere Pflichtangaben aus der Bekanntmachung
Mindestens 3 Bewerber
Preiseinschätzung
Basierend auf 23 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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