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System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 · München · Bayern · Öffentliches Unternehmen
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Beschreibung
System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1)
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Sonstiges
Das Wichtigste auf einen Blick
- Beschaffung eines High Aspect Ratio Etch Systems mit Hauptrahmen und Prozesskammern.
- Auftraggeber ist die Fraunhofer-Gesellschaft, Erfüllungsort ist Dresden.
- Es handelt sich um eine Beschaffung von Lieferungen im Rahmen eines Verhandlungsverfahrens mit Teilnahmewettbewerb.
- Der CPV-Code 42990000 deutet auf Maschinen für allgemeine Zwecke hin, was eine spezifische Branchenzuordnung erschwert.
Es wird ein System für High Aspect Ratio Etch mit Hauptrahmen und Prozesskammern ausgeschrieben.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell (Google Gemini) erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (oeffentlichevergabe.de). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
Weitere Pflichtangaben aus der Bekanntmachung
Mindestens 3 Bewerber
Verfahrensverlauf
📅 .icsVollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
-
Ausschreibung Sie sind hier noch 32 Tage
Angebote werden eingeholt
1 Veröffentlichung
- Frist 15.07.2026 Original-Veröffentlichung aktuell
-
Vergabeergebnis
Angebotsfrist läuft noch
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Preiseinschätzung
Basierend auf 78 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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