Chemisch-mechanische Poliermaschine

Stammdaten

Auftraggeber

Friedrich-Schiller-Universität Jena, Jena

Veröffentlicht

08.09.2026

Frist (Submission)

13.10.2026

Notice-Typ

Ausschreibung

Verfahrensart

Offenes Verfahren

CPV-Code

38000000 — Labor-, optische und Präzisionsgeräte

Branche

Gesundheitswesen & Medizintechnik

Rechtsgrundlage

EU-Oberschwelle

Beschreibung

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

Verfahrens-Bedingungen

Bindefrist

2 Monate

Vergabe-Status

Vergabe-Status

Verfahren laufend

Verfahrensverlauf — alle 3 Veröffentlichungen

• Ausschreibung · Frist: 13.10.2026
• Wertung
• Vergabeergebnis

Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)

Thüringer Landesverwaltungsamt - Vergabekammer, Weimar

Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.