Deutschland – Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke – ALD System (Dielectric) (IPMS-CNT06.1) - PR1017835-2480-P
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Beschreibung
1 Stück ALD System (Dielectric) (IPMS-CNT06.1) Eine Anlage zum Aufbringen von Metallnitriden und dielektrischen Schichten mittels thermischer ALD-Verarbeitung auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Details siehe Vergabeunterlagen. Optionale Leistungspositionen: 2.2.1.1.8 Grundkonfiguration ein Swap-Kit für Metallnitridkammer enthalten Ja/Nein 2.2.1.1.10 Grundausstattung Waferrotation in der Prozesskammer für bessere Gleichmäßigkeitswerte verfügbar Ja/Nein 2.2.1.1.11 Grundausstattung Interne Lagerung von Dummy-Wafern/Testwafern "Ja/Nein (wenn dies Teil des Angebots ist, dann lautet der Mindestanforderungsparameter: min. 25 Wafer, aber eine höhere Anzahl von Wafern ist wünschenswert)" 2.2.1.1.12 Grundkonfiguration Wenn keine Lagerung verfügbar ist, bitte garantieren, dass verschiedene Wafertypen (Dummy, Test, Produkt) in einem Durchlauf aus verschiedenen FOUPs/Loadports (Parallelmodus) verarbeitet werden können Ja/Nein 2.2.1.1.13 Grundkonfiguration Das System ist mit einem Notch-Aligner ausgestattet. Dieser verfügt über einen programmierbaren Kerbenwinkel mit einer Genauigkeit von ≤0,5º für die Kerbe und ≤0,1 mm für die Zentrierung. Ja/Nein 2.2.1.1.14 Grundkonfiguration Kühlstation oder vergleichbare Option zur Waferkühlung (z. B. in Loadlock), damit der FOUP keine erhitzten Wafer sieht. Ja/Nein 2.2.1.1.16 Grundausstattung Vorheizstation/Vorheizkammer verfügbar Ja/Nein 2.2.1.1.20 Grundausstattung Eine zusätzliche Verbindung/ein zusätzliches Fenster in der Kammer für In-situ-Messtechnik (z. B. Massenspektroskopie), weitere Details können während der Verhandlungen geklärt werden Ja/Nein 2.2.1.1.21 Grundkonfiguration Zwei zusätzliche Installationsanschlüsse in der Kammer für die Möglichkeit der In-situ-Ellipsometrie, weitere Details können während der Verhandlungen geklärt werden Ja/Nein 2.2.1.1.22 Grundkonfiguration Möglichkeit, dass die Waferrückseite einschließlich der Abschrägung während der Bearbeitung nicht beschichtet wird Ja/Nein 2.2.1.2.5 Kassetten- und Wa
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KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Bauwesen & Infrastruktur
Es wird ein Rahmenvertrag über den Kauf und die Lieferung von Werkzeugen für die Dienststellen der Stadt Köln, des Landschaftsverbandes Westfalen-Lippe und des Landschaftsverbandes Rheinland ausgeschrieben.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell (Google Gemini) erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de. Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
Verfahrensverlauf
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4 Veröffentlichungen
- 22.09.2025 Auch in TED EU publiziert aktuell
- 19.09.2025 Original-Veröffentlichung
- 24.09.2025 Auch in TED EU publiziert
- 23.09.2025 Auch in TED EU publiziert
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Vergabeergebnis oev
Sonstige Gründe
2 Veröffentlichungen
Preiseinschätzung
Basierend auf 78 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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