Deutschland – Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion – Beschaffung einer hybriden Plasmaätz- und Beschichtungsanlage
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Beschreibung
Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer Anlagen zur Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) und Atomlagenätzen (Atomic Layer Etching, ALE) für plasmagestützte Prozesse zur Abscheidung bei niedrigen Temperaturen. Zudem muss die Anlage über eine Bias-fähige Ellektrode verfügen, um klassische Parallelplatten-RIE-Prozesse durchzuführen. Das Vakuumsystem muss fähig sein, über einen breiten Druckbereich den Prozessdruck stabil zu regeln, da ALD-Prozesse gewöhnlich höhere Drücke erfordern als RIE-Prozesse. Darüber hinaus müssen alle wesentlichen Funktionen einer RIE und einer PE ALD voll erfüllt werden, so wie sie in den Mindestanforderungen der Ausschreibung aufgeführt sind. Auch RIE-Prozesse mit kapazitiv gekoppeltem Plasma und chemische Abscheideprozesse als IC PECVD müssen durchführbar sein.
Weitere Pflichtangaben aus der Bekanntmachung
2 von 2 Angeboten kamen von kleinen oder mittleren Unternehmen (100 %)
Vergabe-Ergebnis
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Los 1 VergebenBeschaffung einer hybriden Plasmaätz- und Beschichtungsanlage
- SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH
Lot-Detail aus Schwester-Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de (gleiche procedure_id).
Verfahrensverlauf
📅 .icsVollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
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Ausschreibung oev
Angebote werden eingeholt
Geschätzter Wert 700.000 €1 Veröffentlichung
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Vergabeergebnis Sie sind hier oev
Auftrag wurde zugeschlagen · 8 Tage nach Fristende
Auftragnehmer SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbHZuschlagswert 690.940 €2 Veröffentlichungen
- 07.10.2025 Auch in TED EU publiziert aktuell
- 03.10.2025 Original-Veröffentlichung
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Preiseinschätzung
Basierend auf 323 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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