Integrated Measurement System CMP04
Beschreibung
For an Ebara F-EX200M2 chemical-mechanical-polishing (CMP) system an integrated measurement system is needed. The CMP system is prepared with so called "NOVA ready - kit" which means all connections and the tool frame for an NOVA 2040dry system are available on customer site. Each measurent system needs to be able to fit to this frame and communication connections. Integrated Measurement System CMP04
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Gesucht wird ein integriertes Messsystem (CMP04) für ein chemisch-mechanisches Poliersystem (Ebara F-EX200M2).
Hinweis: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de.
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