Öffentliche Ausschreibung (national) Gesundheitswesen & Medizintechnik VOL (Lieferungen/DL)

teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken

Fraunhofer ENAS

Beschreibung

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken

KI-Eignungsanalyse

KI-generiert

Branche: Gesundheitswesen & Medizintechnik

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken (6", 7", 9") für die Halbleiterindustrie.

Installation in einem Reinraum erforderlich. Der Auftragsgegenstand ist ein spezialisiertes technisches System mit spezifischen Anforderungen an die Maskengrößen und die Reinraumtauglichkeit.

Weitere Eignungskriterien: Details in der vollständigen Analyse.

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Hinweis: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de.

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Stammdaten
Verfahrensart Öffentliche Ausschreibung (national)
Schwierigkeit Mittel
Auftraggeber Fraunhofer ENAS
Veröffentlicht 05.03.2026
Erfüllungsort 09126 Chemnitz
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Vergabeunterlagen erhalten Sie über die in der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de angegebene Vergabeplattform des Auftraggebers Fraunhofer ENAS. Oberhalb der EU-Schwellenwerte ist die elektronische Einreichung über eVergabe-Plattformen (z. B. Vergabe.NRW, DTVP, evergabe-online.de, HAD) Pflicht.

Datenquelle: oeffentlichevergabe.de (Beschaffungsamt des BMI)