AusschreibungsRadar — Verfahrensauszug
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
Stammdaten
- Auftraggeber
- Fraunhofer ENAS
- Veröffentlicht
- 05.03.2026
- Notice-Typ
- Ausschreibung
- Verfahrensart
- Öffentliche Ausschreibung (national)
- Branche
- Gesundheitswesen & Medizintechnik
- Rechtsgrundlage
- VOL (Lieferungen/DL)
Beschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
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