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Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher
Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V. · Dresden · Sachsen · Öffentliches Unternehmen (Bund)
Vergabe-Ergebnis
SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH
Auftragnehmer
Hinweis: Nicht alle Kerndaten wurden publiziert — die Vergabestelle hat diese Bekanntmachung ohne Vertragswert veröffentlicht.
Das Wichtigste auf einen Blick
KI-generiert- Beschaffung eines Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si Fluorchemie-Ätzers für das Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf.
- Die Anlage soll neue Fähigkeiten für Tiefen-Ätzungen (Bosch-Verfahren) und Durchkontaktierungs-Ätzungen in verschiedenen Materialien wie Si, SiC, Graphen und MoS2 bereitstellen.
- Lieferung, Installation und SAT müssen bis zum 01. Juni 2027 abgeschlossen sein, mit einer Garantie von mindestens zwei Jahren.
- Die Maschine muss in einer Reinraumumgebung (ISO Klasse 6) betrieben werden können, mit Beladung in einer ISO-Klasse 4/5-Umgebung.
- CE-Kennzeichnung ist erforderlich.
KI-generierte Zusammenfassung der Bekanntmachung (KI-Transparenz) — maßgeblich ist die Original-Bekanntmachung.
Beschreibung
The equipment to be procured is a Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher. This will provide new capabilities of deep trench (Bosch process) and through-via etching to the IBC cleanroom. The equipment is procured through the MagKI investment programme which will provide advanced substrate structuring capabilites to the cleanroom which will be used in the final production of magnetic nanodevices for next-gen European based Artifical Intelligence. It will also offer near vertical sidewall profile of etched via's in Si, SiC as well as 2D materials, like graphene and MoS2. Beside the fulfilment of the criteria described under 2. Performance quote of this Annex A, the scope of deliveries and services includes and are part of the offer: - delivery at the place of usage according to DPU Dresden (Incoterms 2020) Place of usage: - the machine must be capable of operating in a cleanroom environment (ISO Class 6) with the sample loaded in an ISO class 4 / 5 environment. - the footprint, technical drawings, electrical drawings must be supplied in the documentation - user documentation in English and German - delivery, installation and SAT must be possible until 01 June 2027 - warranty of at least two years - place of performance: Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e. V.; Ion Beam Center, building 711/ room 105; Bautzner Landstraße 400; 01328 Dresden - SAT in the cleanroom at the Ion Beam Center, building 711/ room 105. The main body of the tool will be located in a ISO Class 6 service area, the loadlock and control PC will be located in a ISO Class 4 / ISO Class 5 cleanroom - CE-marking
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Wonach der Auftraggeber das wirtschaftlichste Angebot ermittelt.
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Performance 50 %Qualität
Criteria in accordance with Annex 01A Performance Specification and Price Declaration_EUOV2601.xlsx
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Preis 50 %
Evaluation price according to Annex 01A
Quelle: Bekanntmachung (eForms) — Gewichtung wie vom Auftraggeber veröffentlicht.
Vergabe- & Vertragsbedingungen
Wichtige Bedingungen für Angebot und Ausführung — wie vom Auftraggeber bekannt gemacht.
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EU-gefördertes Vorhaben
eu-funds
Quelle: Bekanntmachung (eForms). Maßgeblich sind die vollständigen Vergabeunterlagen.
Verfahrensverlauf
📅 .icsVollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
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Ausschreibung
Angebote werden eingeholt
1 Veröffentlichung
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Auftrag wurde zugeschlagen · 42 Tage nach Fristende
Auftragnehmer SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH1 Veröffentlichung
- 09.06.2026 Original-Veröffentlichung aktuell
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