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Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.
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Beschreibung
Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems für den bestehenden und zukünftigen zentralen Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen. Das Lithographiesystem dient in den universitären Forschungsschwerpunkten der Sensorik sowie der Materialwissenschaften als zentraler Reinraum-Gerätebestandteil zur Strukturierung von halbleitenden, metallischen und dielektrischen Dünnschichten sowie von 2D-Materialien. Es steht den universitären Forschungszentren, dem Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), dem Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ), dem Center for Innovative Materials (Cm), dem DFG-geförderten Mikro- und Nanoanalytikzentrum MNaF und der biomedizinischen Sensorforschung, wie auch externen Kooperationspartnern zur Verfügung. Die Realisierung und konsequente Weiterentwicklung funktionaler Bauelemente im Bereich der Forschungsschwerpunkte der Universität Siegen erfordern die Definition von Strukturgrößen und Justiergenauigkeiten im sub µm Bereich. Einsatzgebiete dieser Strukturen umfassen die Bereiche Sensorik, Materialwissenschaften, Mikro- und Nanochemie mit dem Ziel der Erforschung einer breiten Palette an Bauelementen (z. B. optische/biochemische Sensoren, elektronische Höchstfrequenzbauteile) bzw. der grundlegenden Erforschung neuartiger physikalischer Phänomene z.B. in Meta- und 2D-Materialien oder plasmonischen Quantenstrukturen. Nanostrukturierung ermöglicht die Erforschung diverser Zellwechselwirkungen, Sondierungen der Skalierungspotentiale von 2D-Nanomaterialien für 3D-Kameras oder die Realisierung integrierter optischer Schaltkreise und Kommunikationstechnologien der nächsten Generation. Das hier beschaffte schnelle, flexibel einsetzbare und präzise Laserlithographiesystem umfasst eine hochleistungsfähige Graustufen-Lithographie und Optical Proximity Correction zur Prozessierung von bis zu 6“ großen Substraten und soll zentral allen Forschern und Kooperationspartnern der Universität Siegen
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KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: IT & Digitalisierung
Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems für die Universität Siegen zur Strukturierung von Dünnschichten und 2D-Materialien im sub-µm Bereich.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell (Google Gemini) erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (oeffentlichevergabe.de). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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1 Veröffentlichung
- 13.06.2024 Original-Veröffentlichung aktuell
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