Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.

Stammdaten

Auftraggeber

Universität Siegen - Der Kanzler, Siegen

Veröffentlicht

13.06.2024

Notice-Typ

dir-awa-pre

Verfahrensart

Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb

CPV-Code

42990000 — Industrie- und Baumaschinen

Branche

IT & Digitalisierung

Rechtsgrundlage

EU-Oberschwelle

Beschreibung

Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems für den bestehenden und zukünftigen zentralen Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen. Das Lithographiesystem dient in den universitären Forschungsschwerpunkten der Sensorik sowie der Materialwissenschaften als zentraler Reinraum-Gerätebestandteil zur Strukturierung von halbleitenden, metallischen und dielektrischen Dünnschichten sowie von 2D-Materialien. Es steht den universitären Forschungszentren, dem Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), dem Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ), dem Center for Innovative Materials (Cm), dem DFG-geförderten Mikro- und Nanoanalytikzentrum MNaF und der biomedizinischen Sensorforschung, wie auch externen Kooperationspartnern zur Verfügung. Die Realisierung und konsequente Weiterentwicklung funktionaler Bauelemente im Bereich der Forschungsschwerpunkte der Universität Siegen erfordern die Definition von Strukturgrößen und Justiergenauigkeiten im sub µm Bereich. Einsatzgebiete dieser Strukturen umfassen die Bereiche Sensorik, Materialwissenschaften, Mikro- und Nanochemie mit dem Ziel der Erforschung einer breiten Palette an Bauelementen (z. B. optische/biochemische Sensoren, elektronische Höchstfrequenzbauteile) bzw. der grundlegenden Erforschung neuartiger physikalischer Phänomene z.B. in Meta- und 2D-Materialien oder plasmonischen Quantenstrukturen. Nanostrukturierung ermöglicht die Erforschung diverser Zellwechselwirkungen, Sondierungen der Skalierungspotentiale von 2D-Nanomaterialien für 3D-Kameras oder die Realisierung integrierter optischer Schaltkreise und Kommunikationstechnologien der nächsten Generation. Das hier beschaffte schnelle, flexibel einsetzbare und präzise Laserlithographiesystem umfasst eine hochleistungsfähige Graustufen-Lithographie und Optical Proximity Correction zur Prozessierung von bis zu 6“ großen Substraten und soll zentral allen Forschern und Kooperationspartnern der Universität Siegen zur Verfügung stehen. Das Gerät wird essenzieller Bestandteil der Technologie des sich im Aufbau befindlichen, landesgeförderten Forschungszentrums der Universität Siegen (INCYTE) mit 600m2 Reinraum, der 2024 in Betrieb gehen wird. Die Universität verfolgt dabei die Strategie, die technologische Infrastruktur für die Bauelement- und Materialentwicklung am Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), am Center for Innovative Materials (Cm) und am Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ) zu zentralisieren, um Forschungsgeräte effektiver nutzbar zu machen. Die unmittelbare räumliche Nähe zur Nanoanalytik ermöglicht den systematischen Ausbau der hochaktuellen Forschung an nanoskaligen Strukturen und Bauelementen. Um dem breiten Anforderungsprofil der Nutzer gerecht zu werden, wird das Lithographiesytem über ein temperaturstabilisiertes Mini-Environment (ISO-4) und eine 375 nm Laserdiode verfügen, wodurch Breitband- sowie spezielle i-Linien Photolacke prozessiert werden können. Weiterhin sollen zwei Schreiboptionen zur Verfügung stehen, um schnelles Schreiben (Rapid Protoyping) und hochauflösende 300 nm Strukturierung über 6“ Wafer mit minimalem Zeitaufwand unabhängig von der Struktur und zu beschreibender Fläche zu ermöglichen. Höchste Anwendungsflexibilität ermöglicht die hochpräzise Justage mit Genauigkeiten von 1 µm auf Rückseiten- und 250 nm auf Oberseitenstrukturen. Ziel ist es, das System nachhaltig und optimal zu betreiben, um so einen signifikanten Impuls auf den Forschungsstandort Siegen zu erzielen.

VEAT — Direktvergabe-Ankündigung

Veröffentlichung

13.06.2024

Stillhaltefrist (10 Tage)

läuft bis 23.06.2024 — abgelaufen

Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)

Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster, Münster

Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.