AusschreibungsRadar — Verfahrensauszug

Erstellt am 23.05.2026 06:03 · Quelle: https://ausschreibungsradar.com/ausschreibung/ce47bcbe-9d76-448a-850a-52091c5da79c/

CMP Anlage

Notice-ID: ce47bcbe-9d76-448a-850a-52091c5da79c · Procedure-ID: aa9010dd-16f2-4b6f-8916-8c7896a172f2

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Stammdaten

Auftraggeber
Universität Siegen, Siegen
Veröffentlicht
07.04.2026
Frist (Submission)
22.05.2026
Notice-Typ
Ausschreibung
Verfahrensart
Offenes Verfahren
CPV-Code
42990000 — Industrie- und Baumaschinen
Rechtsgrundlage
EU-Oberschwelle

Beschreibung

Anlage zum Planarisieren und Glätten von Oberflächen mittels chemisch-mechanischem Polieren (CMP, chemical mechanical polishing) zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten

Verfahrens-Bedingungen

Bindefrist
6 Wochen

Vergabe-Status

Vergabe-Status
Vergabeergebnis liegt uns nicht vor

Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen

Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)

Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster, Münster

Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.

Hinweis zur Verwendung: Dieser Auszug fasst die zum Erstellungszeitpunkt verfügbaren Daten zur Vergabe zusammen. Quelle der Daten ist oeffentlichevergabe.de (Beschaffungsamt des BMI), vermittelt durch AusschreibungsRadar. Der Auszug ist eine unverbindliche Aufbereitung öffentlich zugänglicher Bekanntmachungen und keine Urkunde im Sinne der ZPO. Für rechtsverbindliche Zwecke ist immer die Original-Bekanntmachung unter dem oben angegebenen Permalink heranzuziehen. Daten können sich nach dem Erstellungszeitpunkt geändert haben (Folgeversionen, Stornierungen, Korrekturen).