AusschreibungsRadar

Stammdaten

Auftraggeber: Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Veröffentlicht: 25.07.2025
Notice-Typ: Vergabeergebnis
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb
CPV-Code: 31712100 — Elektrische Ausrüstung
Branche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Rechtsgrundlage: EU-Oberschwelle

Beschreibung

1x Waferbearbeitungs-Anlage mit zentralem Handlingsystem, 1 Kammer für Ionenstrahlätzen und 1 PVD -Kammer zur in-situ-Passievierung und Elektrodenabscheidung beschafft. Die Anlage soll 200 mm Wafer bearbeiten. Die Ionenstrahlätzkammer muss für die Strukturierung von magnetischen Multischichtstapeln (GMR, TMR) geeignet sein. Weiterhin muss diese Kammer mit einem Optischen Emissionsspektrometer (OES) ausgerüstet sein für die Endpunkterkennung. Die PVD-Kammer wird für Abscheidung von SiN-Passivierungsschichten auf den GMR/TME-Strukturen direkt nach der Strukturierung ohne Vakuumunterbrechung und zur Abscheidung von Elektrodensystemen aus Edelmetallen verwendet. Optionale Merkmale: - Ersatzsatz von Kammerinnenteilen (Abschirmungen / Shutter), die aufgrund von Beschichtung / Partikelgenerierung zu reinigen sind: Auflistung der benötigten Teile pro Prozesskammer; Angabe der Sätze pro Kammer als Einzelpositionen im Angebot - weitere Substratmaterialien: wenn möglich auch Quartz

Vertragslaufzeit

Periode: 14 Monate

Vergabe-Status

Auftragnehmer: scia Systems GmbH

Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen

Ausschreibung · Frist: 22.04.2025
Vergabeergebnis

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