AusschreibungsRadar — Verfahrensauszug

Quelle: TED EU (https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/534552-2026) · Abgerufen am 25.09.2026 19:26 über https://ausschreibungsradar.com/ausschreibung/ted-534552-2026/

Defect Inspection Tool (IPMS-MRS04.1) - PR948311-2480-P

Notice-ID: ted-534552-2026 · Procedure-ID: ff93ac13-b2b3-465b-b6a2-6940c7ca67bf

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Stammdaten

Auftraggeber
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Veröffentlicht
03.08.2026
Notice-Typ
Vergabeergebnis
Verfahrensart
Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb
CPV-Code
42990000 — Industrie- und Baumaschinen
Branche
IT & Digitalisierung
Rechtsgrundlage
EU-Oberschwelle

Beschreibung

1 Stück Defect Inspection Tool (IPMS-MRS04.1) Diese Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein Fehlerinspektionssystem, das für die Erkennung, Identifizierung und Klassifizierung von Partikeln und Musterfehlern auf strukturierten und unstrukturierten Wafern entwickelt wurde. Das Gerät kann Substrate mit einer variablen Dicke von etwa 390 µm bis 1200 µm aufnehmen und bietet somit Flexibilität für verschiedene Wafertypen und Anwendungen. Das Inspektionssystem verfügt über eine Empfindlichkeit von bis zu 200 nm und ermöglicht so die Erkennung selbst kleinster Defekte, die die Leistung des Wafers beeinträchtigen könnten. Das System ist für den Halbleiterfertigungsprozess optimiert und speziell auf 200-mm-MEMS-Wafer in einer CMOS-kompatiblen Reinraumumgebung ausgerichtet. Optionale Positionen: 1.7 Allgemeine Anforderungen Fähigkeit zur Verarbeitung von 300-mm-Wafern ja/nein 3.2 Prozessspezifikation Fähigkeit zur separaten BF/DF-Beleuchtung ja/nein 3.3 Prozessspezifikation Fähigkeit zur Zweikanalinspektion (BF/DF) ja/nein 3.7 Prozessspezifikation Das Werkzeug unterstützt die Erstellung von waferlosen Rezepten ja/nein 3.29 Prozessspezifikation Fähigkeit zur Erzeugung eines vollständigen Waferbildes ja/nein 4.2 Kontaminationsgrad Kontaminationsgrad für Nichtedelmetalle Al, Ti ≤ 50,0*E10 at/cm², alle anderen Metalle ≤ 5,0*E10 at/cm²; ja/nein 4.4 Kontaminationsgrad Kontaminationsgrad für Edelmetalle (Ag, Au, Pd, Pt, Ru) Bestätigung der Edelmetallkonzentration < 0,05*E10 at/cm2 (< LOD); ja/nein 5.5 Kassetten-/Wafer-Spezifikationen Option zur Handhabung von Wafern mit hoher Wölbung < ± 200 µm ja/nein

Vergabe-Status

Auftragnehmer
KLA CORPORATION

Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen

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