Vorinformation – Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems für Halbleiterprozesse
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Beschreibung
Lieferung, Installation und Inbetriebnahme eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems zur Metallabscheidung auf Halbleitersubstraten bis 200 mm. Die Anlage dient der Herstellung von metallischen Schichten für mikro- und nanoelektronische Anwendungen.
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Das Wichtigste auf einen Blick
- Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems für Halbleiterprozesse.
- Lieferung, Installation und Inbetriebnahme der Anlage zur Metallabscheidung auf Halbleitersubstraten.
- Geeignet für mikro- und nanoelektronische Anwendungen.
- Geschätzter Auftragswert: 1.386.000 EUR.
Es wird ein Elektronenstrahl-Verdampfungssystem für Halbleiterprozesse zur Metallabscheidung auf Substraten bis 200 mm gesucht.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell (Google Gemini) erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (TED EU). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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